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CE-600、800自動清洗機是專門用于晶圓、QFN、玻璃、基板、手機模組和陶瓷等切割后的清洗設(shè)備。此系列為二流體清洗方案，采用可編輯控制器＋全彩色觸摸屏為操作系統(tǒng)，令設(shè)備性能更加穩(wěn)定、操作便捷。采用特殊內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計能均勻混合，產(chǎn)生細(xì)微液滴尺寸的噴霧或粗液滴噴霧。

PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率為3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。

產(chǎn)品簡介：轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機，專為處理顆粒、粉末樣品而設(shè)計。在等離子體作用下，一些材料很容易發(fā)生斷鍵和聚合，轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機可以高效率的處理微細(xì)的甚至分子級別的超細(xì)粉末材料，改變了傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理顆粒、粉末樣品的問題。該機同樣也可以處理非粉末的樣品，實現(xiàn)了一機多用的功能。

GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的環(huán)境下活化和清理材料（如單晶片、光學(xué)元件、塑料等）表面雜質(zhì)，且清理速度迅速。本機是為獲得高質(zhì)量的外延薄膜或光學(xué)涂層進(jìn)行預(yù)先表面處理的合適的工具選擇。具有一個樣品臺，將樣品固定在樣品臺上后可進(jìn)行X

VTC-200-CE半柜式清洗機采用直線導(dǎo)軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動,同時配備有去離子水淸洗和氮氣吹干功能,采用高精度伺服電機控制 wafer的旋轉(zhuǎn),由七寸全彩觸屏進(jìn)行操作，全不銹鋼機柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導(dǎo)軌,不銹鋼內(nèi)腔,設(shè)計合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達(dá)控制旋轉(zhuǎn)速度和時間,自動控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復(fù)性好。

PCE-22-LD紫外臭氧清洗機采用不需要任何溶劑的干式清洗技術(shù)，對清洗表面沒有損傷。采用大功率低壓石英汞燈，產(chǎn)生波長185nm和254nm的紫外線，185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的臭氧分子O3，254nm的光同時激發(fā)清洗表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短，且同時也被254nm的光分解，因此可調(diào)節(jié)樣品臺到燈管的距離來優(yōu)化性能。