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當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > DIY > 濺射鍍膜類 > HVMSS-SPC-2 2英寸高真空磁控濺射頭
簡要描述:2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2可安裝直徑為2“的靶材,適用靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性??膳cDC或RF電源配合使用。
詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,該磁控濺射頭可安裝直徑為2"的靶材,適用靶材種類較廣,如金屬靶材(如金、銀、銅等材料)、絕緣靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。該磁控濺射頭配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。該磁控濺射頭可與DC或RF電源配合使用來濺射不同種類的樣品。
產(chǎn)品型號 | 2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2 |
主要特點 | 1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。 2、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體,以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布。 3、磁體表面涂有保護(hù)層,以防止冷卻水的腐蝕,延長其使用壽命。 4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭,可與DC和RF電源相匹配。 5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭,便于操作。 6、靶材更換較為簡單,無需調(diào)整濺射頭的高度。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、陽極護(hù)罩直徑:Φ3.5" 2、所用靶材:直徑2"(50.8mm),非磁性靶zui大厚度1/4",磁性靶zui大厚度1/16" 3、磁鐵:NdFeB稀土永磁體 4、靶材利用率:30% 5、所需功率:DCzui大1000W,RFzui大500W 6、濺射電流:zui大3A 7、濺射電壓:100V-1000V 8、濺射時腔體真空度:5mtorr-100mtorr 9、濺射均勻性曲線:
10、水冷卻:水管外徑0.25",流速0.8GPM,進(jìn)水溫度<20℃ |
產(chǎn)品規(guī)格 |
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可選配件 | 1、循環(huán)水冷機(jī),流量為16L/min,水箱容積為6L。 2、同時購買300W射頻發(fā)射器和2"磁控濺射頭時,本司贈送1個高真空快速接頭。接頭內(nèi)徑為0.75",可將濺射 頭安裝在真空腔體上,真空腔體上的安裝孔直徑為1",真空腔體的壁厚不得大于1"。
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